細線路蝕刻用正型光阻乾膜,解析度L/S<5/5適用於極細線路成形 ,不再需要自行塗布液態光阻減少工時節省成本,經由熱壓即可發揮極佳的黏著力讓乾膜密著於載體上,接觸式和DI曝光機皆適用,曝光處理後乾膜可溶解於KOH剝膜液,室溫下可保存一年以上