高耐藥性乾膜,適用於金屬/玻璃蝕刻製程 KN30為鹼性顯影負型的光阻乾膜。 對於氫氟酸,有機溶劑...等,有良好的耐藥性 並適用於剝膜製程(建議使用有機Amine系剝膜液)。 備註:(須保存於10度C以下,建議黃光環境作業) 價格另談, MOQ≧ 200M²(同規格)/次
